锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法

Standard method for showing and measuring dislocation etch pits in indium antimonide single crystal

概要

国家标准计划《锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准委

项目进度

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征求意见

审查

批准

发布

基础信息

  • 20252259-T-469
  • 修订
  • 16个月
  • 2025-07-01
  • GB/T 11297.6-1989,
  • 方法
  • 29.045
  • 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 国家标准委

起草单位

中国电子科技集团公司第十一研究所、中国电子技术标准化研究院、中航凯迈红外科技有限公司